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Pfeiffer EVR116產品詳情
概述
Pfeiffer EVR116是一款氣體控制閥，用于控制真空系統中的氣體流量。它具有以下特點：
高流量:可提供高流量，滿足各種應用需求。
高精度:可提供精確的氣體流量控制。
高可靠性:采用堅固耐用的設計，可承受惡劣的環境條件。
易用性:提供用戶友好的控制軟件和維護工具。
應用
EVR116可用于各種真空系統應用，包括：
濺射鍍膜:控制濺射過程中的氣體流量。
電子束蒸發:控制蒸發過程中的氣體流量。
離子束蝕刻:控制蝕刻過程中的氣體流量。
分析儀器:控制分析儀器中的氣體流量。
典型應用
在某半導體制造廠中，使用了多臺EVR116控制濺射鍍膜過程中的氣體流量。
在某光學元件制造廠中，使用了多臺EVR116控制電子束蒸發過程中的氣體流量。
在某科研機構中，使用了多臺EVR116控制離子束蝕刻過程中的氣體流量。
在某分析實驗室中，使用了多臺EVR116控制分析儀器中的氣體流量。
技術規格
最大流量：1250 hPa·l/s
最小流量：5·10^-6 hPa·l/s
控制精度：±1%
工作溫度：5°C至40°C
防護等級：IP65
